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產品詳情
CIF推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。產品性能穩定，操作簡單方便，易維護。
等離子清洗機原理
等離子體是一種中性、高能量、離子化的氣體。其中包括中性原子或分子、電子、活性基因、激發態的核素、光子等。等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質第四態，它由離子、電子以及未電離的中性粒子的集合組成，整體呈中性的物質狀態。
等離子清洗機就是在真空腔體里，通過射頻電源在壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗材料表面，改變材料表面性質，優化材料表面性能，從而實現清潔、改性等目的。
應用領域：
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
產品特點
u7寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20個配方程序，工藝數據可存儲追溯。
uPLC控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。
u采用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質量流量計(CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制精準。
u氣體返填吹掃，HEPA高效過濾，防止二次污染。
u316不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統采用316不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。
u采用60度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。
u上控制下艙體結構設計，結構緊湊，占地空間小。
u內凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。
u處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。
u樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。
u安全保護，艙門打開，自動關閉電源。
2024-07-26 
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